據俄羅斯下諾夫哥羅德策略發展機構公文，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所 (IPF RAS) 正在開發俄羅斯首套半導體光刻設備，並對外誇下海口：這套光刻機能夠使用 7nm 生產芯片，可於 2028 年全面投產。
據介紹，他們計劃在六年內製作出光刻機的工業原型，首先要在 2024 年開發一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在於其工作或解決的高速性，而在於所有系統的全面性。
然後，到 2026 年，alpha 應該被 Beta 所取代。屆時所有系統都將得到改進和優化，分辨率也將得到提升，生產力也將提高，許多操作將實現機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術流程中，並通過“拉起”適合其他生產階段的設備對其進行調試。
第三步也就是最後一步，將爲光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統，並使得這一套光刻系統能夠快速準確地工作。
IT之家曾報道，俄羅斯目前已經可以生產 65nm 製程的芯片，該國此前宣佈了一項國家計劃，希望在 2030 年開發 28nm 製程，希望靠着對外國芯片進行逆向工程，並培養當地半導體人才。
俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示，全球光刻機領導者 ASML 近 20 年來一直致力於 EUV 曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。但俄羅斯並不需要，只要根據俄羅斯國內的需求向前推進即可。
從其他外媒的評價來看，俄羅斯的想法似乎太過天真，畢竟想在 6 年內僅憑自己研發出可媲美 ASML 十年積澱的光刻技術實在是有點難以令人相信，且晶圓廠並非光靠光刻機就可生產出芯片，還需要許多外圍設備，而俄羅斯並不滿足獨立生產這些設備的條件。
值得一提的是，下諾夫哥羅德代表團還向大家展示了未來光刻設備的演示樣品。這套系統基於下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發、製造和安裝。不過他們自己也提到，這甚至不是設備原型，而是“原型的原型”。
這套演示設備雖然不能解決實際的工業問題，但它可以讓科學家有機會驗證關鍵技術的可行性，並測試進一步工作所需的其他關鍵假設。
本文來源於：IT之家
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