彎道超車，佳能開始銷售非光刻方案的 5nm 芯片生產設備

2023年10月13日，佳能今天宣佈推出FPA-1200NZ2C芯片生產製造設備，通過將具有納米壓印光刻（NIL）技術的半導體制造設備推向市場。

FPA-1200NZ2C

與傳統的光刻設備通過將電路圖案投射到電阻塗層的晶圓上來傳輸電路圖案，新產品通過像郵票一樣按壓印有電路圖案的遮光片來做到這一點。由於其電路模式傳輸過程不經過光學機構，因此面罩上的精細電路模式可以在晶圓上忠實地再現。因此，利用該設備只需一次壓印即可形成複雜的2D、3D線路，有助於削弱購置成本。

運行中的FPA-1200NZ2C

佳能的NIL技術可繪製出最小線寬爲14納米的線路，相當於生產目前可用的最先進的邏輯半導體所需的5納米節點。此外，隨着掩碼技術的進一步改進，NIL預計將實現最小線寬爲10納米的電路模式化，相當於2納米節點。

新產品採用新開發的環境控制技術，可以抑制設備中微顆粒的污染。這實現了高精度對準，這是製造具有越來越多的層的半導體所必需的，並減少了微顆粒造成的缺陷，並能夠形成精細和複雜的電路，有助於製造尖端半導體器件。

由於新產品不需要具有特殊波長的光源用於精細電路，因此與目前最先進的邏輯半導體（5納米節點，15納米線寬）的光刻設備相比，它可以顯著降低功耗，從而有助於減少二氧化碳。

Canon新聞稿：https://global.canon/en/news/2023/20231013.html